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產(chǎn)品資料
產(chǎn)品[

電子薄膜應(yīng)力分布測(cè)試儀 型號(hào):HFGS-6341

]資料
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產(chǎn)品名稱(chēng): 電子薄膜應(yīng)力分布測(cè)試儀 型號(hào):HFGS-6341
產(chǎn)品型號(hào): HFGS-6341
產(chǎn)品展商: 中慧
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簡(jiǎn)單介紹

產(chǎn)品簡(jiǎn)介 該產(chǎn)品主要應(yīng)用在微電子、光電子生產(chǎn)線(xiàn)上和科研、教學(xué)等領(lǐng)域Si、Ge、GaAs等半導(dǎo)體基片及電子薄膜應(yīng)力分布、光學(xué)零件面形和平整度面形、 基片曲率半徑測(cè)量測(cè)試。該儀器總測(cè)量點(diǎn)數(shù)多,能給出場(chǎng)面型分布結(jié)果,適合于微電子生產(chǎn)線(xiàn)上產(chǎn)量的快速檢驗(yàn)和微電子生產(chǎn)研究。 儀器基于干涉計(jì)量的場(chǎng)測(cè)試原理,可實(shí)時(shí)觀(guān)測(cè)面型的分布,迅速了解被測(cè)樣品的形貌及應(yīng)力集中位置,及時(shí)淘汰早期失效產(chǎn)品。

電子薄膜應(yīng)力分布測(cè)試儀 型號(hào):HFGS-6341

的詳細(xì)介紹

產(chǎn)品簡(jiǎn)介
該產(chǎn)品主要應(yīng)用在微電子、光電子生產(chǎn)線(xiàn)上和科研、教學(xué)等領(lǐng)域Si、Ge、GaAs等半導(dǎo)體基片及電子薄膜應(yīng)力分布、光學(xué)零件面形和平整度面形、 基片曲率半徑測(cè)量測(cè)試。該儀器總測(cè)量點(diǎn)數(shù)多,能給出場(chǎng)面型分布結(jié)果,適合于微電子生產(chǎn)線(xiàn)上產(chǎn)量的快速檢驗(yàn)和微電子生產(chǎn)研究。
儀器基于干涉計(jì)量的場(chǎng)測(cè)試原理,可實(shí)時(shí)觀(guān)測(cè)面型的分布,迅速了解被測(cè)樣品的形貌及應(yīng)力集中位置,及時(shí)淘汰早期失效產(chǎn)品。
產(chǎn)品特點(diǎn)
創(chuàng)的錯(cuò)位相移
計(jì)算機(jī)自動(dòng)條紋處理
測(cè)試過(guò)程自動(dòng)
的曲面補(bǔ)償測(cè)試原理
指標(biāo)
樣品尺寸:≤100mm (4英寸)
曲率范圍:|R|≥5米
測(cè)試精度:5%
單片測(cè)量時(shí)間:3分鐘/片
結(jié)果類(lèi)型:面形、曲率半徑、應(yīng)力分布、公式表示、數(shù)據(jù)表格
圖形顯示功能:三維立體顯示、二維偽彩色顯示、單截面曲線(xiàn)顯示
電    源:AC 220V±10%, 50Hz±5%
功耗:100W
外型尺寸:(L×W×H) 285mm×680mm×450mm
重    量:36kg

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